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采用恒电流电化学技术直接在金属钼片上制备了具有白钨矿结构的钼酸锶（SrMoO4）多晶薄膜，着重在实验上研究了薄膜的晶体生长特性。研究表明，采用电化学技术制备SrMoO4晶态薄膜时，薄膜的生长具有如下特点：（1）晶核生成需要一定的时间，但晶核一旦生成，其形貌就比较完整；（2）晶核和晶粒优先选择在基体缺陷（折叠、划痕、缺陷、凹凸不平等）处生长和堆砌；（3）基体上晶粒的数量随着制备时间的增加而增加，晶粒的尺寸随着时间的增加而长大，晶粒逐渐从基体表面上的稀疏分布直到布满整个基体；（4）晶粒的{111}面总是显露的