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采用直流磁控溅射在表面氧化的Si（001）基片上制备了FePt/C纳米薄膜，将薄膜样品经过600 ℃真空退火处理1 h获得L10-FePt薄膜。用X射线衍射仪（XRD）、振动样品磁强计（VSM）和扫描探针显微镜（SPM）对样品的结构、磁性和表面形貌进行测量和分析。结果表明：随着C底层厚度的增加，L10-FePt薄膜（001）取向度增强，有序化程度提高，矫顽力增大；C溅射时间为180 s时，获得了具有（001）织构生长的L10-FePt薄膜。