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本发明公开了一种金属银二硫化钼插层复合材料的制备方法。该方法是一种基于高分子保护条件下的金属单质的插层方法，即先将聚合物与含有金属离子的水溶液混合形成均匀的溶胶体系，然后将溶胶插入到单层二硫化钼层间，最后对金属离子进行还原处理即得到含高分子和金属单质的二硫化钼插层复合材料。
金属银二硫化钼插层复合材料的制备方法
【摘 要】
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本发明公开了一种金属银二硫化钼插层复合材料的制备方法。该方法是一种基于高分子保护条件下的金属单质的插层方法，即先将聚合物与含有金属离子的水溶液混合形成均匀的溶胶体
【出 处】
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中国钼业
【发表日期】
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2008年6期
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