聚硅氧烷制备高比表面积微介孔炭材料

来源 :新型炭材料 | 被引量 : 0次 | 上传用户：chenzhipengo

【摘要】

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通过对聚甲基（苯基）硅树脂（SR249）在1250～1350℃、真空气氛下裂解以及氢氟酸酸洗处理制备得到具有高比表面积的纳米多孔炭材料。采用X-ray衍射光谱、拉曼光谱、元素分析、透射电镜

【作者】

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段力群马青松陈朝辉

【机构】

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国防科技大学航天科学与工程学院新型陶瓷纤维及其复合材料国防科技重点实验室

【出处】

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新型炭材料

【发表日期】

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2013年3期

【关键词】

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聚硅氧烷纳米多孔炭孔结构裂解腐蚀处理 Polysiloxane Porous carbon Pore structure Pyrolysis Etchi

【基金项目】

：

Aid Program for Science and Technology Innovative Research Team in Higher Educational Institutions of Hunan Province~~

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通过对聚甲基（苯基）硅树脂（SR249）在1250～1350℃、真空气氛下裂解以及氢氟酸酸洗处理制备得到具有高比表面积的纳米多孔炭材料。采用X-ray衍射光谱、拉曼光谱、元素分析、透射电镜及氮气吸附法对不同温度所制样品进行元素组成及结构研究。裂解产物中的SiO2相作为一种天然模板经腐蚀处理除去。裂解温度和酸洗处理对多孔炭材料的成分和结构变化影响较大。HF酸处理前,裂解产物的比表面积小于55m2/g;而酸洗后产物比表面积和总孔容量显著增加,而最高值是裂解温度为1300℃时获得,分别为1148m2/g、0.6

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