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脉冲真空电弧离子镀沉积速率的研究
脉冲真空电弧离子镀沉积速率的研究
来源 :表面技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:cao5556759
【摘 要】
:
薄膜沉积速率是影响薄膜性能的重要参数,研究它对于沉积优良的类金刚石薄膜具有重要的作用.针对脉冲真空电弧离子镀的具体工艺参数,研究了各种工艺参数对类金刚石薄膜沉积速
【作 者】
:
蔡长龙
王季梅
弥谦
杭凌侠
严一心
徐均琪
【机 构】
:
西安交通大学电气工程学院,西安工业学院光电科学与工程系
【出 处】
:
表面技术
【发表日期】
:
2002年6期
【关键词】
:
脉冲真空电弧离子镀
沉积速率
研究
类金刚石薄膜
Pulsed arc
Deposition ratio
DLC film
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薄膜沉积速率是影响薄膜性能的重要参数,研究它对于沉积优良的类金刚石薄膜具有重要的作用.针对脉冲真空电弧离子镀的具体工艺参数,研究了各种工艺参数对类金刚石薄膜沉积速率的影响,找出了影响类金刚石薄膜沉积速率的主要参数,得到了各种工艺参数下类金刚石薄膜沉积速率的曲线.
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