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日本东京工业大学开发成功可减少裂纹等缺陷的金属电镀新技术。该技术是在高压条件下，利用处于超临界状态的二氧化碳，在铜底板上镀镍磷。与此前的电镀技术相比．此技术提高了耐用性，有望应用于硬盘电镀等行业。
减少缺陷的金属电镀新技术
【摘 要】
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日本东京工业大学开发成功可减少裂纹等缺陷的金属电镀新技术。该技术是在高压条件下，利用处于超临界状态的二氧化碳，在铜底板上镀镍磷。与此前的电镀技术相比．此技术提高了耐用
【机 构】
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中创
【出 处】
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军民两用技术与产品
【发表日期】
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2006年10期
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