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研究了纳米金刚石粉预处理的光滑硅衬底上ＣＶＤ金刚石薄膜的成核与生长。通过与研磨处理样品相比较，纳米金刚石的预处理极大地提高了成核密度（可达１０＾９／ｃｍ＾２）、成核速度与成膜质量，并能方便地进行成核密度的控制，是一种经济实用、简单有效的预处理方法。
纳米粉预处理的CVD金刚石薄膜成核与生长研究
【摘 要】
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研究了纳米金刚石粉预处理的光滑硅衬底上ＣＶＤ金刚石薄膜的成核与生长。通过与研磨处理样品相比较，纳米金刚石的预处理极大地提高了成核密度（可达１０＾９／ｃｍ＾２）、成核速度与成膜质量，并能方便地进
【机 构】
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兰州大学物理系,中国科学院化学物理研究所
【出 处】
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无机材料学报
【发表日期】
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1998年6期
【基金项目】
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国家教委优秀青年教师基金,,国家自然科学基金!69676005
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