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利用磁控反应溅射技术制备了氮化钽薄膜,利用TEM、XRD技术研究了薄膜的微观结构。研究结果表明:薄膜中多相共存;薄膜晶粒细小(16nm左右);同时还发现,在一定工作压力下,随着氮分压的提高,氮化物晶粒形成的取向改变,即平行于基体表面生长的晶面会有改变。一定工作压力下,制备的氮化钽薄膜硬变高达4000kg/nm^2以上。本文探讨了氮化钽薄膜高硬度的原因,并且讨论了随氮分压的提高薄膜织构变化的原因。