【摘 要】
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单层过渡金属硫化物由于其特有的激子效应以及强自旋-谷耦合性质,在光电子学及谷电子学等方面有着很广阔的应用前景.利用超快时间分辨光谱,本文系统地比较了两类钨基单层硫化
【机 构】
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上海大学理学院物理系,STU&,SIOM超强激光及其应用联合实验室,上海科技大学物质与技术学院
【基金项目】
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国家自然科学基金(批准号:11674213,11604202,61735010);上海高校青年东方学者(批准号:QD2015020);上海市教育委员会和上海市教育发展基金会“晨光计划”(批准号:16CG45);上海市青年科技启明星计划(批准号:18QA1401700)资助的课题~~
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单层过渡金属硫化物由于其特有的激子效应以及强自旋-谷耦合性质,在光电子学及谷电子学等方面有着很广阔的应用前景.利用超快时间分辨光谱,本文系统地比较了两类钨基单层硫化物(WS2和WSe2)的A-激子动力学和谷自旋弛豫特性.实验结果表明, WS2单层膜的A-激子弛豫表现为双指数过程,而对于WSe2,其A-激子衰减表现为三指数过程,且激子的寿命远长于前者. WS2谷自旋极化弛豫表现为单指数衰减,其寿命约0.35 ps,主要由电子-空穴交换作用所主导.而对于WSe2,谷自旋弛豫表现出双指数弛豫特性:一个寿命为0.
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