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射频磁控溅射法制备氮化硼薄膜
射频磁控溅射法制备氮化硼薄膜
来源 :机械工程材料 | 被引量 : 0次 | 上传用户:cbxabc
【摘 要】
:
采用射频磁控溅射方法在T10钢表面获得了氮化硼薄膜。借助光学显微镜、摩擦磨损试验仪和划痕试验仪等研究了溅射时间、溅射功率以及中间层对薄膜性能的影响。结果表明:氮化硼
【作 者】
:
李宁
邵红红
【机 构】
:
江苏大学材料科学与工程学院
【出 处】
:
机械工程材料
【发表日期】
:
2006年11期
【关键词】
:
射频磁控溅射
氮化硼薄膜
摩擦因数
结合力
radio frequency magnetron sputtering
BN film
friction fa
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采用射频磁控溅射方法在T10钢表面获得了氮化硼薄膜。借助光学显微镜、摩擦磨损试验仪和划痕试验仪等研究了溅射时间、溅射功率以及中间层对薄膜性能的影响。结果表明:氮化硼薄膜的摩擦因数约为钢基材料的一半,中间层镍磷合金的加入使薄膜结合力显著提高。
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