星用功率VDMOS器件SEGR效应研究

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对源漏击穿电压为400 V和500 V的N沟功率VDMOS器件进行碘离子单粒子辐照实验,讨论了不同偏置下两种功率器件的SEGR效应。研究结果显示:栅源电压为0 V、漏源电压为击穿电压时,器件未发生单粒子效应,表明两种星用功率器件的抗单粒子效应能力达到技术指标要求。 The ION single-particle irradiation experiments were performed on N-channel power VDMOS devices with source-drain breakdown voltages of 400 V and 500 V. The SEGR effects of the two power devices under different biasing conditions were discussed. The results show that when the gate-source voltage is 0 V and the drain-source voltage is the breakdown voltage, the device does not have a single-particle effect, indicating that the single-particle effect capability of the two power devices with the stars meets the technical requirements.
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