Key Issues for Implementing Smart Polishing in Semiconductor Failure Analysis

来源 :应用数学与应用物理(英文) | 被引量 : 0次 | 上传用户：aionkina

【摘要】

：

“Industry 4.0” has become the future direction of manufacturing industry. To prepare for this upgrade, it is important to study the automation of semiconducto

【作者】

：

Jacobus Leo Hao Tan Yinzhe Ma

【机构】

：

GlobalFoundriesSingaporePte.Ltd.

【出处】

：

应用数学与应用物理(英文)

【发表日期】

：

2017年9期

【关键词】

：

SEMICONDUCTOR PROCESS Optimization Failure ANALYSIS Image PROCESS GREY Scale Lin

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“Industry 4.0” has become the future direction of manufacturing industry. To prepare for this upgrade, it is important to study the automation of semiconductor failure analysis. In this paper, the sample polishing activity was studied for upgrading to a s

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