吸附溶出伏安法研究(Ⅰ)——铜(Ⅱ)存在下痕量半胱氨酸的测定

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吸附溶出伏安法是近年发展起来的一种新的电分析方法。Kalvoda等对其机理及应用作了报导,孙长林等研究了铜(Ⅱ)存在下痕量半胱氨酸(RSH)的阴极溶出行为,认为所得溶出峰为吸附溶出峰。本文对其机理作了进一步探讨,证实了其电积过程为吸附过程。并用拟定的方法,无需前处理,测定了人血清中ppm级的RSH,结果满意。 Adsorptive stripping voltammetry is a new analytical method developed in recent years. Kalvoda et al. Reported their mechanism and application. Sun Changlin et al. Studied the cathodic dissolution behavior of trace cysteine ​​(RSH) in the presence of copper (II), and found that the resulting dissolution peak was the adsorption peak. In this paper, the mechanism was further explored, confirming its electrowinning process as the adsorption process. And with the proposed method, without pretreatment, determination of human serum ppm level of RSH, the results were satisfactory.
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