【摘 要】
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采用磁控溅射仪制备一系列不同A1含量的W1-xAlxN薄膜，系统研究该复合膜的微结构、力学性能、高温抗氧化性能及摩擦磨损性能。结果表明，W1-xAlxN薄膜为面心立方结构，呈（200）择优生
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采用磁控溅射仪制备一系列不同A1含量的W1-xAlxN薄膜，系统研究该复合膜的微结构、力学性能、高温抗氧化性能及摩擦磨损性能。结果表明，W1-xAlxN薄膜为面心立方结构，呈（200）择优生长。当Al含量（原子分数，下同）为32．4％时，复合膜中形成h-A1N相，且随Al含量增加，h-AlN含量增多。随A1含量增加，薄膜硬度先升高后降低，Al含量为32．4％时薄膜硬度最大，约为37GPa。随Al含量增加，复合膜在室温下的摩擦因数和磨损率均先减小后增大，Al含量为32．4％时达到最小值，分别为0.3和0．9
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