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文章分析了目前工业用的水基清洗和有机溶剂清洗技术,因对大气臭氧层的破坏以及对环境的污染问题,已不太适于电子工业发展的需要。目前最有希望的替代工艺就是超临界CO2清洗技术,详细介绍了超临界CO2清洗新技术的原理,使用条件与方法,新技术的优缺点及应用范围,强调该技术值得全国推广应用。
印制板和电子元件的超临界流体清洗技术
【摘 要】
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文章分析了目前工业用的水基清洗和有机溶剂清洗技术,因对大气臭氧层的破坏以及对环境的污染问题,已不太适于电子工业发展的需要。目前最有希望的替代工艺就是超临界CO2清洗
【机 构】
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南京大学,广东哈福研究所
【出 处】
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印制电路信息
【发表日期】
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2016年4期
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