ECR—CVD沉积a—C：F薄膜

来源 :功能材料 | 被引量 : 0次 | 上传用户：ryuichist

【摘要】

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采用电子回旋共振等离子体化学气相沉积(ECR-CVD)技术,用苯和三氟甲烷混合气体,制备了氟化非晶碳膜(a-C:F).用红外吸收光谱(FTIR)和X射线光电子能谱(XPS)分析了a-C:F薄膜的结

【作者】

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康健叶超辛煜程珊华宁兆元

【机构】

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苏州大学物理系

【出处】

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功能材料

【发表日期】

：

2001年5期

【关键词】

：

a-C:F薄膜 ECR-CVD 键结合氟化非晶碳膜 aC∶F thin film ECRCVD bond structure

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采用电子回旋共振等离子体化学气相沉积(ECR-CVD)技术,用苯和三氟甲烷混合气体,制备了氟化非晶碳膜(a-C:F).用红外吸收光谱(FTIR)和X射线光电子能谱(XPS)分析了a-C:F薄膜的结构.FTIR结果表明,氟主要以C-F、CF2的形式成键形成a-C:F薄膜;XPS结果进一步证明a-C:F膜中存在C-F、CF2键,获得了与FTIR相一致的结果.

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