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[期刊论文] 作者：ZET Gheorg-he,MANTA Vasile,POPA Camelia,
来源：中国物理快报(英文版) 年份：2008
We present a model of gauge theory based on the symmetry group G×SU(2) where G is the gravitational gauge...group and SU(2) is the inteal group of symmetry.We em...
[期刊论文] 作者：刘桓,
来源：北方论丛 年份：2008
甲骨卜辞中的“Su陮”，系指用石头垒成的军垒；“稂三陮”、“Su四陮”，分别指第三处、第四处用石头垒成的军垒。...
[期刊论文] 作者：ZHONG Wo-Jun,DUAN Yi-Shi,
来源：中国物理快报（英文版） 年份：2008
By decomposing SU(2) gauge potential in four-dimensional Euclidean SU(2) Yang-Mills theory in a new way...
[会议论文] 作者：石晓军,刘爱华,
来源：“常纺院”杯全国前织生产技术管理经验交流会 年份：2008
PR-Su具有良好的性能，能完全替代PVA，解决了PVA难降解，对环境污染的问题;同时PR-Su同PVA价格差异使浆纱成本大幅度降低.使用PR-Su浆料使企业的经济效益与社会效益得到双赢。...该公司已大面积推广使用PR-Su这一新型环保浆料。...结论：1、使用PR-Su浆液粘度较低,流动性和渗透性较好,减少了二次毛羽,开口清晰,好轴率提高,浆料具有较好的粘着力,并具有良好的耐磨性,PR-Su浆料可织造性好...
[学位论文] 作者：朱真,
来源：东南大学 年份：2008
采用SU-8胶的UV光刻技术是制造MEMS的重要微细加工技术之一。SU-8胶克服了普通光刻胶深宽比不足的问题,同时也克服了LIGA技术中X射线光源极为昂贵的问题,适合于制造超厚、高...
[会议论文] 作者：贾存路,
来源：全国浆料和浆纱技术2008年会 年份：2008
德国伊埃斯集团公司的PR-Su可以在任何品种(包括T/C、纯涤等)全部等量取代PVA，从试浆到中试，到大面积推广取得相当满意的效果,本文介绍了德国伊埃斯集团公司的PR-Su产品规格、...
[会议论文] 作者：石晓军;刘爱华;,
来源：“常纺院”杯全国前织生产技术管理经验交流会 年份：2008
PR-Su具有良好的性能，能完全替代PVA，解决了PVA难降解，对环境污染的问题;同时PR-Su同PVA价格差异使浆纱成本大幅度降低.使用PR-Su浆料使企业的经济效益与社会效益得到双赢。该公...
[期刊论文] 作者：刘紫玉,
来源：咸阳师范学院学报 年份：2008
使用李代数方法对SU（2）规范势进行了完全分解，将SU（2）规范势用单位矢量场进行表示，进一步研究了SU（2）规范势的几何意义，并使用几何...
[期刊论文] 作者：赵筛喜,
来源：上海纺织科技 年份：2008
介绍了生产涤棉府绸织物时，采用PR—Su浆料完全取代PVA的上浆实践。通过对比试验和理论分析，优选出合理的浆料配方和浆纱工艺参数。结果表明：使用PR—Su浆料不但消除了环境污染，...
[期刊论文] 作者：贾多杰,
来源：中国物理C：英文版 年份：2008
It is shown that SU(2)QCD admits an dual Abelian-Higgs phase,with a Higgs vacuum of a type-Ⅱsuperconductor.This...
[会议论文] 作者：石晓军,刘爱华,
来源：全国浆料和浆纱技术2008年会 年份：2008
本文就PR-Su在JC7.3×7.3×787×724×239缎纹品种上的实际生产情况进行了简要的介绍，阐述了PR-Su浆料的主要性能，探讨了浆料配方和浆料工艺选择，浅谈了织造效果。...
[期刊论文] 作者：朱学林,熊瑛,刘刚,褚家如,
来源：功能材料与器件学报 年份：2008
提出了一种简易的基于SU8和PMMA的电泳芯片的制作方法,研究了PMMA基底上SU8胶微管道的光刻和薄膜微电极的lift-off制作工艺,探讨了PMMA材料特性对薄膜微电极和SU8胶光刻的影...
[期刊论文] 作者：朱学林,熊瑛,刘刚,田扬超,褚家如,,
来源：功能材料与器件学报 年份：2008
提出了一种简易的基于SU8和PMMA的电泳芯片的制作方法,研究了PMMA基底上SU8胶微管道的光刻和薄膜微电极的lift-off制作工艺,探讨了PMMA材料特性对薄膜微电极和SU8胶光刻的影...
[学位论文] 作者：王煜,
来源： 年份：2008
随着MEMS(微电子机械系统)技术的迅速发展,基于SU-8胶的UV-LIGA技术得到了广泛的应用。SU-8光刻胶已成为制作高深宽比结构的首选光刻胶。...然而SU-8胶在工艺过程中会产生较大的内应力,这个问题是制约用SU-8胶制作更高深宽比及尺寸精度微结构的重要问题之一。...
[期刊论文] 作者：郑晓虎,
来源：微纳电子技术 年份：2008
突破了传统深宽比概念，提出金属基底上基于图形特征的光刻胶显影技术，对采用SU-8胶加工高分辨率和高深宽比微结构的显影工艺进行了讨论，分析了120-340μm厚具有不同图形特征的SU...
[期刊论文] 作者：刘要北,王学雷,任晓燕,曹永华,
来源：中国物理C：英文版 年份：2008
In the framework of the SU(3) simple group model,we consider the single top quark production process...
[期刊论文] 作者：史博生, 郑力,,
来源：棉纺织技术 年份：2008
研究以PR-Su浆料完全取代PVA的上浆工艺。对PR-Su浆料的粘着性、溶解性、浆液粘度、热稳定性、浆膜耐磨性、降解性等指标进行了测试,并分析了各项指标对浆纱效果的影响,提出...
[期刊论文] 作者：史博生, 郑力,,
来源：棉纺织技术 年份：2008
研究以PR-Su浆料完全取代PVA的上浆工艺。对PR-Su浆料的粘着性、溶解性、浆液粘度、热稳定性、浆膜强度、浆膜耐磨性、降解性等指标进行了测试,并分析了各项指标对浆纱效果的...
[期刊论文] 作者：杜立群,朱神渺,刘冲,,
来源：压电与声光 年份：2008
SU-8胶的热溶胀效应及其机理进行了研究，在现有微模具的UV-LIGA工艺的基础上，利用AN-SYS对SU-8胶的热溶胀性规律进行了仿真分析。通过SU-8胶模的溶胀实验，建立了热溶胀变形的速...
[期刊论文] 作者：朱学林,郭育华,刘刚,田扬超,褚家如,,
来源：功能材料与器件学报 年份：2008
研究了在透光性基底上直接光刻SU8光刻胶制作可实现光集成微流控芯片的工艺,讨论了基底厚度、透光性和样品承载台表面反射性等因素对透光性基底上SU8光刻图形质量的影响。研...
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