真空镀膜机的设备综合效率(OEE)研究

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设备综合效率是生产设备实际的生产能力相对于理论产能的比率,是一种独立测量工具;是一种简单实用的生产管理的工具;同时也是衡量企业生产效率的重要标准。当今制造业面临巨大竞争压力,且随着原材料价格和劳动力成本上涨,企业为了确保利润就必须创新,提高效率,降低成本。鉴于此设备综合效率被广泛应用于世界各国的制造业中。A公司主要生产投影显示系统光学部件,主要工艺过程是真空镀膜。随着市场竞争日趋激烈,公司导入了设备综合效率,并在公司关键设备--真空镀膜机上应用与研究。本文首先介绍课题产生的背景,简单叙述设备综合效率国内外应用现状。其后描述SEMI标准中设备综合效率定义,公司对设备综合效率定义及计算方法,较为详细介绍公司有计算设备综合效率时的设备时间开动率、设备性能、直接良率三个方面的计算公式、数据分类与相关数据如何获取。然后根据历史数据运用质量与统计方法分析真空镀膜机的设备综合效率主要的影响因子,并结合真空镀膜机的自身生产特点,确定出需要改善的影响因子。最后针对相关影响因子运用工业工程的程序分析、操作分析与时间分析方法,及质量管理多种手法与方法挖掘出适当的方案去解决问题或减少问题影响的程度。通过近三年时间对真空镀膜机的设备综合效率研究与应用,真空镀膜机的设备综合效率有着显著提高,设备综合效率年平均值从2007年的35.9%提高到目前的76.24%,年维修费用节省80.5万元。公司通过实施设备综合效率真正实现降本增效的目的,提高了公司在同行业的竞争力。
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