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低辐射玻璃具有很高的远红外反射率和可见光透过率,既能满足室内的采光度又能有很好的节能效果。随着低辐射玻璃在建筑物中的广泛应用以及对低辐射薄膜的深入研究,低辐射薄膜的稳定性逐渐成为目前的研究热点。从成本和性能方面考虑,目前使用的离线低辐射薄膜多为银基低辐射膜,但是银膜不耐磨、不耐化学腐蚀、热稳定性差、耐湿性差。因此,选择合适的保护层,有效保护银膜,提高薄膜附着力,提高低辐射玻璃的使用寿命,显得尤为重要。TaAlN薄膜具有良好的机械性能和优异的化学稳定性,并且制备过程中Ag层不会氧化,是保护层的理想材料。本实验以银靶、钽靶和铝靶为靶材,N2为反应气体,室温下采用射频磁控溅射法在玻璃基片上沉积薄膜。运用紫外可见分光光度计（UV-VIS）、表面轮廓仪、傅里叶红外光谱仪（FTIR）、X射线衍射（XRD）、场发射扫描电镜（SEM）、等仪器对薄膜的各项性能进行检测分析。实验制备了TaAlN薄膜,研究了Ta靶溅射功率、Al靶溅射功率、N2流量和溅射时间等工艺参数对其光学性能的影响,并对其远红外辐射率以及微观结构和表面成分进行了研究。将TaAlN薄膜用作低辐射薄膜的介质层,设计了TaAlN/Ag/TaAl N复合薄膜,研究制备工艺参数对复合膜光学性能以及耐腐蚀性的影响,并对其复合膜的结构和成分进行了研究。研究表明:TaAlN具有优异的光学性能,Ta溅射功率为110W,Al溅射功率为100W,N2流量5sccm,溅射时间为120min条件下制备的TaAlN薄膜在波长550nm处的可见光透过率高达87.5%,远红外辐射率为0.59,具有一定的节能效果;TaAlN薄膜呈非晶态,能够提高薄膜的稳定性。结构为TaAlN（32nm）/Ag（12nm）/TaAlN（32nm）的复合膜低辐射薄膜在波长550nm处的透过率达到了85.1%,远红外辐射率为0.102,并且具有很好的机械性能和化学稳定性。