黄瓜是我国日光温室栽培的主要蔬菜作物之一。冬春季节日光温室黄瓜长期受到弱光、亚低温等不利环境的影响。赤霉素为生长素类植物生长调节剂,能促进植物生长发育。为阐明亚适宜温光下赤霉素对黄瓜生长、生理特性和产量的影响,以黄瓜‘中农26’为试材,根系滴灌赤霉素（GA₃）处理“两叶一心”期的黄瓜幼苗,清水处理为对照,10d后测定黄瓜生物量、根系活力、色素含量、丙二醛含量以及矿质元素含量等指标;叶片喷施GA₃的方法从黄瓜4⁵叶期开始处理,叶片喷施清水为对照,测定黄瓜生长、生理指标、产量和品质。主要结果如下:1.与正常温光相比,根区亚低温处理下黄瓜幼苗的株高、茎粗、叶面积、根直径、根体积、干物重、色素含量以及相同养分浓度下黄瓜幼苗总养分积累和吸收效率明显降低;喷施GA₃可以有效缓解根区亚低温对黄瓜幼苗生长的抑制作用。根区亚低温下,根施GA₃可以提高相同养分浓度下黄瓜幼苗的株高、茎粗、叶面积、根直径、根体积、干物质积累以及色素含量,且最适的根施黄瓜幼苗的GA₃浓度为5μmol·L^-1;增加养分浓度,黄瓜幼苗的株高和生物量明显增加。正常温光、亚低温以及亚低温下施加GA₃处理下,高养分水平(N/P/K=20/0.68/20 mmol·L^-1)下黄瓜幼苗的总生物量分别比低养分水平(N/P/K=10/0.34/10 mmol·L^-1)处理增加30.66%、19.59%和21.98%。但是,随着养分浓度的升高,养分利用效率逐渐减小。正常温光下,高养分水平下氮（N）、磷（P）、钾（K）的利用效率比低养分水平分别减少44.0%、15.0%、23.8%;根区亚低温条件下,高养分水平下N、P、K的利用效率比低养分水平分别减少61.92%、27.15%、32.43%。根施GA₃处理,相同养分水平下黄瓜幼苗的生物量和养分利用效率明显增加,高养分水平下N、P和K的利用效率分别增加53.43%、25.53%和20.91%。2.与喷施清水（对照）处理相比,喷施GA₃处理可促进日光温室早春茬黄瓜生长。试验浓度范围内,黄瓜株高、茎粗、叶片数、根系活力、色素含量、净光合速率（Pn）以及N、P、K、钙（Ca）、镁（Mg）、铁（Fe）等矿质元素含量以50mg·L^-1处理最高。其中,Pn为21.01μmol·m-2·s^-1,比对照增加22.44%;叶绿素a、叶绿素b和类胡萝卜素含量分别比对照增加27.16%、24.22%和29.24%。同时,喷施GA₃处理提高了黄瓜坐果率,从而使单株结果数和产量增加,其中50mg·L^-1处理的黄瓜产量为12152 kg·亩^-1,比对照增加24%,且喷施GA₃改善了黄瓜品质。喷施GA₃可减轻早春日光温室内的亚适宜温光环境对黄瓜生长的不利影响,以50mg·L^-1效果最好。