本论文在分析大量国内外文献的基础上，对微弧氧化技术研究现状、应用前景和应用领域进行了综述，并对微弧氧化技术所涉及的理论基础知识进行了概括。 重点是实验研究部分，在该部分中主要研究了微弧氧化的电流密度、氧化时间、溶液体系的成分、不同基体材料等对在铝合金表面微弧氧化制备陶瓷膜层的影响，通过实验找出了能制得性能优异的陶瓷膜层的条件。初步探讨了铝合金试样表面陶瓷化成膜的机理，对不同实验条件下制备的陶瓷膜的形貌、结构、硬度和厚度等性能进行了测试分析，研究了影响陶瓷膜层性能（厚度、硬度、附着强度、耐磨性、耐腐蚀性等）的主要因素。 实验研究和理论分析表明：电流密度40～60A/dm²，微弧氧化时间60～90min，一定的工作电压输出是能发生微弧氧化的较好条件。其中电流密度、工作电压是决定能否发生微弧氧化的关键因素；在一定的氧化时间范围内，氧化时间的长短是决定微弧氧化膜层厚度的根本因素；而溶液体系的成分、基体材料的组成等虽对微弧陶瓷膜层有一定的影响，但影响不是很大。 微弧氧化制备的陶瓷膜层主要由α—A1₂O₃和γ—Al₂O₃组成，具有孔隙率低、击穿电压高、硬度高、耐磨性好、耐腐蚀能力强、抗热震性和抗热冲击性好等优异性能。 由于微弧氧化技术能在铝材表面原位生长陶瓷膜层，从而它把第二代工程材料（铝合金材料）与第三代工程材料（陶瓷材料）的优点结合了在一起，使得微弧氧化技术能够满足许多尖端技术的需要，在军工、航空、航天、机械、纺织、汽车、医疗、电子和装饰等许多领域有广泛的应用前景。