高性能硅基MEMS压阻谐振器研究

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基于单晶硅的MEMS谐振器由于其高Q值,与CMOS工艺兼容,易加工等优点获得了广泛的研究。相较于静电式和压电式传感的MEMS谐振器,硅基MEMS压阻谐振器由于其不随频率变化的高机电耦合系数等特性,成为高频MEMS振荡器和传感器应用的重要组成部分。然而,硅基MEMS压阻谐振器依然存在着诸多问题,本论文分别对下列问题给出解决方案。1.MEMS体模态压阻谐振器机电耦合系数普遍较低。针对这一问题,本论文建立精确有限元模型,提出MEMS压阻谐振器换能效率提取方法。以方形伸缩模态为例,分析MEMS体模态压阻谐振器的机电耦合系数影响因素,并优化改进实现换能效率最高提升110倍的方形伸缩模态压阻谐振器。2.由于热动力回馈效应的存在,MEMS压阻谐振器较静电、压电谐振器的Q值影响因素更复杂,缺乏定量分析的方法。针对这一问题,本论文建立热动力回馈效应的精确有限元模型,并引入随温度变化的材料参数以研究谐振器结构尺寸和温度对热动力回馈效应的影响;在有限元模型的基础上提取等效电路模型,实现MEMS压阻谐振器与外围电路联仿。MEMS压阻谐振器的有限元模型和等效电路模型共同组成完善的Q值定量分析方法,可实现对绝大多数情形下MEMS压阻谐振器的Q值预测。3.MEMS压阻谐振器既受益于高掺杂单晶硅形成欧姆接触后的低接触电阻,又受益于低掺杂浓度单晶硅的高压阻系数,形成一对矛盾。针对这一问题,本论文在MEMS压阻谐振器的工艺流程中引入离子注入工艺对中低掺杂单晶硅的偏置电极进行选择性掺杂,保证谐振器具有高压阻效应的同时实现低接触电阻,显著提升MEMS压阻谐振器的性能。此外,本论文在实施完整的MEMS压阻谐振器加工工艺后,对所遇到的问题以及解决问题的经验汇总作为参考。
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