磁控溅射制备MoS2基复合薄膜的结构与性能研究

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为了提高MoS_2薄膜在室温潮湿大气条件下的摩擦磨损性能,本文采用磁控溅射方法制备了MoS_2-Ti-WS_2、MoS_2-Ti-C和MoS_2-TiN复合薄膜,作为比较在相同实验条件下制备了纯MoS_2和MoS_2-Ti薄膜。采用能谱仪(EDS)、X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)等对薄膜的成分、结构和形貌进行表征,采用纳米压痕仪、UMT-2多功能微摩擦磨损试验机等测试薄膜与基体的结合力、纳米压痕硬度以及摩擦系数,并观察薄膜的磨损形貌,评价薄膜在室温潮湿大气条件下的摩擦磨损性能。
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