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脉冲等离子体爆炸技术（PPD）将气体爆炸与等离子体技术结合,在材料表面迅速升温、冷却的过程中发生合金化反应以及自淬火效应,从而制备出耐磨、耐蚀的改性层。TA2和TC4虽然综合力学性能好,但耐磨性差。在TA2和TC4表面进行PPD处理可以提高其耐磨、耐蚀性能,扩大其应用范围。本文在TA2表面进行PPD处理,研究电容值（C）、脉冲次数（N）、冷却气体（CG）对TA2改性层组织、形貌和性能的影响;并对相同工艺条件下TA2与TC4改性层的组织、形貌、性能和强化机制进行了对比分析。研究不同工艺参数对TA2和TC4改性层的耐磨性、耐蚀性影响,并对其磨损机制进行分析。研究结果表明:PPD处理后TA2改性层由TiN、TiN0.3、TixOy、Ti、以及少量W相组成。随着电容值和脉冲次数的增加,TA2改性层的表面粗糙度、改性层厚度和平均硬度不断增加,改性层中柱状枝晶更加发达。空气作为冷却气体比氩气和氮气效果更好。当电容800μF,脉冲2次,空气冷却时,TA2改性层的综合性能最佳,其表面粗糙度为3.44μm,硬度最大值位于距表面20μm处为709.9HK0.01,比基体提高3.8倍。相同工艺参数下,TA2和TC4改性层的相组成基本相同,但TiN0.3仅存在于TA2改性层中。相比于TC4改性层,TA2改性层的晶粒尺寸更大,但硬度更高。TA2改性层强化机制以第二相强化为主,同时还存在细晶强化、位错强化和固溶强化;TC4改性层强化机制包括表面纳米化、第二相强化和固溶强化。相较于基体,PPD处理后的TA2摩擦系数、磨损体积均减少,而PPD处理后的TC4摩擦系数略有增大,但磨损体积明显减少。两种基体在磨损中均表现出磨粒磨损和黏着磨损特征,而PPD处理后两种改性层磨损机制均为三体磨粒磨损,并伴有轻微的黏着磨损特征。磨损时间较长时,PPD处理后的TA2磨损表面还出现疲劳磨损特征。氮气冷却改性层的耐蚀性均优于空气冷却改性层以及氩气冷却改性层。随脉冲次数增加,TA2改性层耐蚀性逐渐降低,TC4改性层耐蚀性呈先增加后减少趋势。