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单晶MgO作为一种重要的衬底基片被广泛地应用在各种薄膜生长领域。但是，作为薄膜的基片，不仅要求极低的表面粗糙度，而且要求很高的平整度。目前，对于单晶MgO基片的超精密加工技术，国内外的研究报道很少，尤其是对决定基片表面最终加工质量的超精密加工理论和关键技术的文献根本无法查到。而对涉及到尖端技术和国防应用领域的大尺寸高质量的MgO基片，国外在技术上和产品上对我国实行封锁。 本文对单晶MgO基片的抛光工艺和抛光机理进行了系统的实验研究。主要研究内容和结论如下：