钴（Co）在铂（Pt）上欠电位沉积（UPD）的研究主要集中在单晶Pt基体和酸性溶液中,而关于多晶Pt基体上Co的UPD和过电位沉积（OPD）研究却少见报道。由于大部分Pt是以多晶的形式存在,多晶Pt表面活性位点多、能态离散,关于Co在多晶Pt上的电沉积行为的研究具有重要的意义。本研究首先探索了Pt片电极表面最佳处理方法,利用循环伏安法（CV）研究Co在金属Pt表面的UPD和OPD行为,分析不同因素（Co离子浓度、反转电位、扫描速率）对Co在金属Pt表面UPD和OPD行为的影响;不同阴离子镀液体系中,在金属Pt表面电沉积制备Co膜,探究不同阴离子对Co膜结构和性能的影响;最后分析金属Pt表面欠电位沉积Co膜的电催化性能。主要结论如下:（1）对比研究了灼烧法、化学抛光法、电化学抛光法三种方法对Pt片电极表面的处理效果,发现电化学抛光法处理效果最佳。（2）采用循环伏安法研究了Co在金属Pt表面的电沉积行为。负向扫描过程中,分别在-0.120V,-0.380V和-0.840V观察到A,B和C峰（A峰是由于溶液中的导电盐引起的,B峰为Co的UPD峰,C峰为Co的OPD峰）;正向扫描时,分别在-0.710V,-0.520V和0.290V观察到D,E和F峰（D峰与富氢钴相的溶解有关,E峰为过电位沉积Co的溶解峰,F峰为欠电位沉积Co的溶解峰）。（3）对比研究了不同阴离子镀液体系中,金属Pt表面电沉积Co膜的结构和性能差异。研究结果表明:氯离子镀液体系中Co（220）晶面峰强最强,Co晶粒呈针状生长且均匀排列,镀层表面粗糙,膜较厚,耐蚀性最强;硫酸根镀液体系中Co（111）晶面峰强最强,Co晶粒呈球状生长,镀层表面较平整,膜较薄,耐蚀性较弱;氯离子加柠檬酸根镀液体系中Co（111）晶面峰强最强,由于柠檬酸根的加入改变了Co晶粒生长的择优取向,Co晶粒细小,镀层表面平滑、膜最薄,耐蚀性最差。（4）研究了金属Pt表面欠电位沉积Co膜的电催化性能。获得金属Pt表面欠电位沉积Co膜在光伏辅助分解水制氢系统中实现全解水制氢所需的最低理论外加偏压。在外加偏压为-1.0V时,可获得8.28%的太阳能转换为氢能（STH）转换效率。