聚合物表面紫外臭氧改性研究及座舱盖电磁屏蔽膜层的制备

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随着光电系统的发展,透明导电材料由于其优异的光电性能在显示器、太阳能电池和建筑涂层等领域得以广泛应用,同时作为窗口除雾的加热电极和降低雷达散射截面积的电磁屏蔽薄膜在航空航天领域的光学窗口起着至关重要的作用。座舱盖作为飞机的光学窗口不仅要承载座舱内外的压差载荷与鸟撞和高速飞行气动热的结构需求,还要能够减小电磁波的散射实现隐身效果。由于座舱盖基底是聚合物且是曲面形状,因此需要在低温下制备具有一定韧性的薄膜,同时保证透过率和电磁屏蔽效率,因此在当前透明导电薄膜体系中只能选择金属与金属氧化物复合型薄膜来实现。然而金属薄膜与聚合物之间较差的结合力也是目前透明导电薄膜应用领域中急需解决的问题。针对上述问题,本文采用紫外臭氧改性聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)来提高金属薄膜与聚合物之间的结合强度。通过AFM、ATR-FTIR和表面水接触角等表征手段从表面形貌、官能团和亲水性几个方面入手对改性机理做出解释。采用金(Au)膜与氧化钛(TiO2)薄膜的复合结构作为座舱盖电磁屏蔽薄膜,研究了Au膜厚度与透过率和电磁屏蔽效率之间的变化关系,发现纳米厚度的微小改变将引起薄膜性质上的明显变化。利用射频磁控溅射在不同氧气流量条件下制备了TiO2薄膜,并对薄膜的微观形貌、化学成分、透过率和硬度等性能进行分析研究。得到在功率为100W,氩气流量20sccm,溅射气压1.5Pa的条件下,7sccm的氧流量是制备TiO2薄膜的最佳气体参数。最后在对复合型薄膜透明导电机理分析的基础上,采用椭偏光谱仪拟合计算薄膜的光学常数。分别采用TiO2/Au/TiO2结构和Au/TiO2结构在PMMA基底上制备电磁屏蔽薄膜并测试了光/电性能。结果表明,Au/TiO2结构在11/30nm时薄膜样品平均透过率达到71%,电磁屏蔽效率低于-20dB。相比前一种结构透过率提高了5%,且可以解决直接在PMMA表面沉积TiO2薄膜带来的雾化问题,同时简化了制备工艺。
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