【摘 要】
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该文用射频磁控溅射的方法制备了Ag/SiO(0≤x≤2)纳米复合膜,采用多种实验手段研究了复合膜的成分和结构,主要研究了Ag/SiO(0≤x≤2)纳米复合膜等离子共振吸收峰的来源,环境
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该文用射频磁控溅射的方法制备了Ag/SiO<,x>(0≤x≤2)纳米复合膜,采用多种实验手段研究了复合膜的成分和结构,主要研究了Ag/SiO<,x>(0≤x≤2)纳米复合膜等离子共振吸收峰的来源,环境气氛对等离子共振吸收峰的影响,等离子共振吸收峰精细结构的来源,Ag/SiO<,2>纳米复合膜三阶非线性增强的原因,作为该文工作的扩展,研究人员还研究了InAs/Si纳米复合物的制备与结构.
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