本文利用射频磁控溅射方法制备了FeNi(Co)-SiO2系列纳米软磁颗粒膜。利用X-ray衍射和TEM得到了样品的基本结构信息；用VSM、SQUID和直流四端法等系统地研究了样品的电性和磁性；利用PFM－001型磁导计测量了样品的高频特性，结果表明，样品的晶粒尺寸基本等于颗粒尺寸；溅射Ar气压是影响材料软磁性能的关键因素之一；在介质区，颗粒间距较大，电子被完全局域在颗粒周围，不存在自由电子的散射以及电子－电子相互作用，唯一的导电机制是电子的隧穿；即使不对衬底加外磁场，由于粒子的斜入射，样品仍有很好的单轴各向异性；SiO2靶功率的变化不仅影响各向异性场的大小，而且影响易轴的方向。 本文研究了在Fe65Co35-SiO2系统中，在共溅射时，衬底不加磁场和加磁场对样品各向异性的影响。研究发现，在共溅射过程中，不加磁场和加磁场对样品各向异性的影响不大；研究了在Fe65Co35-SiO2系统中，在用复合靶溅射时，改变衬底磁场大小而引起的样品各向异性的变化。研究发现，当衬底所加外磁场大于一定值(约200Oe)时，易轴的方向才与所加磁场的方向一致。