本论文简要阐述了纳米多层膜的研究意义及其应用。由于其优异的性能，纳米多层膜已成为微电子与光电子领域研究热点之一。 本文在本课题组以前工作的基础上，用加热蒸发和自然氧化方法，用纯铝、纯铬在玻璃基底上制备出4、5、6、7对层的金属／氧化物多层膜，纳米多层膜的总厚度从100nm到230nm；用硅制出各种半导体／氧化物（本征硅／氧化硅、P型硅／氧化硅、N型硅／氧化硅）多层膜。 采用称重法测量薄膜的厚度；并使用三点法（分为层间测法和面上测法）研究常温和低温下多层膜的U-I特性。使用扫描电镜（SEM）观察多层膜的表面形貌和截面，并用能谱（EDS）分析多层膜的成分；使用透射电子显微镜（TEM）和X射线衍射仪（XRD）分析多层膜的晶体结构，用分光光度计检测多层膜的光学性能。进而，我们研究加热对多层膜表面形貌和光电性能的影响。 实验结果表明，多层膜在常温和低温仍存在类负阻效应。多层膜U-I曲线检测表明：对层数增加，膜厚增大，均导致U-I曲线的U／I值减小，V₁值（截距）的绝对值减小；电极间距增大（面上测法），U／I值增大，V₁值的绝对值也增大；Al／Al₂O₃多层膜和硅／氧化硅多层膜一样，低温下U／I值和V₁值的绝对值均高于常温下对应值，而Cr／Cr₂O₃多层膜则与之相反。多层膜光学性能检测表明：随着波长的增加，多层膜呈现出透过率增强的趋势；对层数增加，厚度增加，平均透过率均减少。加热对硅／氧化硅多层膜性能的影响为：加热后，多层膜透过率增加，出现结晶现象；加热时间长短影响晶粒大小，加热温度高低影响结晶程度；加热后多层膜电阻率明显增大，类负阻效应也更为明显。