相对于其他传统固化技术,光固化技术具有无溶剂、环境污染小、固化速度快、节省能源、固化产物性能好等优点,故广泛应用于光刻胶、油漆、涂料、油墨、电子封装材料、粘合剂等领域,具有良好的发展前景。在光刻胶中,常用的光引发剂2,2’-二(2’-氯苯基)-4,4’,5,5’-四苯基-1,2’-二咪唑(BCIM)虽然效果很好,但是由于感光波长短、溶解性差、环境污染等问题一直受到诟病。本文正是针对此问题,研究开发了一种新型的夺氢型光引发剂-喹喔啉衍生物。在合成的六种紫外光引发剂中,它们的最大紫外吸收波长均在常用光源波长范围之内:350~410nm,而且有较大的摩尔消光系数。通过研究发现,喹喔啉引发剂能与MBO配合成最好的光引发体系,尤其D3MOP-BenQ/MBO,它引发单体的转化率达到100%,相当可观。而且只有采取适当的引发剂浓度才能得到最佳的引发效果。喹喔啉引发剂用于光致刻蚀实验中也非常成功。在喹喔啉结构的基础上我们进一步开发了四种可见光引发剂,使它们在530nm左右仍然有吸收。将它们与MBO配合成引发体系分别引发PPGDA和AMP-10G聚合,发现不同结构的光引发剂与体系的相容性不同导致引发所需时间不同,当然,无论引发哪种单体,BenQs类光引发剂具有相对较大的转化率。