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该文分析了低压气相生长金刚石膜现有设备和工艺的特点,确定热丝化学气相沉积(HFCVD)工艺,设备简单,成本低廉,膜层质量好,扩大生长面积和强化生长过程较易实现,工艺过程易于精确控制,是发展高速率气相生长优质大面积金刚石膜工业化生产工艺的基础。
大面积金刚石膜工业化反应器设计原理及生长工艺的研究
【摘 要】
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该文分析了低压气相生长金刚石膜现有设备和工艺的特点,确定热丝化学气相沉积(HFCVD)工艺,设备简单,成本低廉,膜层质量好,扩大生长面积和强化生长过程较易实现,工艺过程易于
【机 构】
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中国科学院金属研究所
【出 处】
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中国科学院金属研究所
【发表日期】
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2000年期
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