溶液过饱和度和氘化程度对KDP/DKDP晶体光学性能影响的研究

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KDP/DKDP晶体是一种光学性能非常优良的非线性光学晶体,主要用于激光变频、电光调制、光快速开关等高科技领域。大尺寸KDP/DKDP晶体是惯性约束核聚变工程(ICF)的首选材料,目前还没有其它的综合性能更优良的材料可以用来取代它。尽管KDP/DKDP晶体经历了60多年的研究历程,但借助于更新的方法和手段以及更先进的仪器和设备,人们对它的研究仍在日益加深。ICF工程对KDP/DKDP晶体的要求既包括高光学质量(高的激光损伤阈值、高的光学均匀性)和大透光口径,同时也包括数量,例如美国的国家点火计划(NIF)大约需要由600片截面积为41cm×41cm的KDP/DKDP晶片组装成普克尔斯盒和倍频器件,我国的神光Ⅲ计划也将需要大量的由KDP/DKDP晶体制成的光学器件。为了满足工程的需要,人们在努力提高晶体光学质量的基础上,积极探索快速生长和定向生长技术。 近些年来随着ICF的迅速发展,美国禁止出口相关的技术和材料,国际上大尺寸高质量的KDP/DKDP晶体供不应求。研究大尺寸高质量的KDP/DKDP晶体的生长,为我国神光Ⅲ计划提供足够多的各项指标均能达到工程要求的KDP/DKDP晶片,是我们面临的主要任务和亟待解决的难题。 溶液的稳定性是KDP/DKDP晶体生长的基础,它不仅关系到晶体的生长能否顺利进行,还影响到晶体的光学质量。对KDP/DKDP晶体生长过程中溶液的状态进行研究和分析,有利于我们为晶体的生长提供一个相对稳定的溶液环境,减少一些偶然因素对晶体生长和光学质量的影响,从而可以更好地分析所设计的生长条件对晶体生长及其光学性能的影响。 本论文首先对KDP晶体生长过程中溶液的稳定性进行了分析。溶液的稳定性包括其自身状态的稳定性和为晶体生长提供驱动力的稳定性。对于理想的KDP过饱和溶液,影响其稳定性的主要因素是溶液的
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