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从分子轨道ab intito计算出发,运用统计热力学和化学反应动力学理论方法,在低压化学气相沉积(CVD)金刚石薄膜系统中的气相环境和气相-表面相互作用两个方面进行了理论研究.
低压化学气相沉积金刚石薄膜的理论研究
【摘 要】
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从分子轨道ab intito计算出发,运用统计热力学和化学反应动力学理论方法,在低压化学气相沉积(CVD)金刚石薄膜系统中的气相环境和气相-表面相互作用两个方面进行了理论研究.
【机 构】
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吉林大学
【出 处】
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吉林大学
【发表日期】
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1996年期
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