退火条件对氧化钒薄膜光电特性影响的研究

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过渡金属钒可以和氧结合成多种价态的氧化物,各种钒的氧化物以其优良的性能成为国内外功能材料研究的热点,具有广阔的应用前景。本论文以高纯V_2O_5粉末(纯度≥99.99%)为原料,采用真空蒸发法制备出V_2O_5薄膜,然后将制得的V_2O_5薄膜在改造过的镀膜机中直接退火,得到多种纯度高、结晶度好的氧化钒薄膜,比如:V_4O_9、V_6O_(13)、VO_2(A)、VO_2(B)等,研究了退火条件对氧化钒薄膜晶体结构、离子价态、表面形貌、电学性质、光学性质等方面的影响,并着重对VO_2(A)、VO_2
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