【摘 要】
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湿法氧化工艺是近些年来制作垂直腔面发射半导体激光器（VCSEL）的新工艺，与传统工艺相比具有工艺简单、氧化尺寸易于控制并且可以形成强折射率波导限制等特点。 本论文从氧化
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湿法氧化工艺是近些年来制作垂直腔面发射半导体激光器（VCSEL）的新工艺，与传统工艺相比具有工艺简单、氧化尺寸易于控制并且可以形成强折射率波导限制等特点。 本论文从氧化反应的机理出发，根据理论上较为成型的硅氧化理论模型推导出湿法氧化AlxGa1-xAs的速率方程。并进行了大量的实验，实验数据表明推导出的速率方程基本适用。同时在本论文中对氧化过程中出现的氧化产物收缩、氧化层开裂、多孔结构等现象的产生原因及其对器件性能的影响进行了讨论，并提出新的工艺方法解决这些问题。在此基础上制作出阈值低、发光效率高的VCSEL器件。
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