不同组合频率下使用大气压冷等离子体射流(APPJ)沉积氧化硅薄膜

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近年来,大气压冷等离子体射流(APPJ)沉积薄膜的技术越来越受到人们的关注,因为放电装置的优点是成本低,不需要昂贵的真空设备,操作简单,有利于连续化的生产加工和小型化便携式的使用,因此具有广泛的应用前景,成为国际上低温等离子体的热门研究课题之一。调查显示,双频(DF)大气压冷等离子体射流较之单频驱动的大气压等离子体射流有诸多优点,其结合了低频(LF)与射频(RF)的特点使其较之单独低频(LF)等离子体的活性更强,直观的表现为等离子体活性基团的相对光谱强度更大。而与单独射频(RF)驱动相比,双频(DF
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