本文考虑到聚甲基丙烯酸甲酯为最常用的光纤材料，在选材上，根据对各种材料与聚甲基丙烯酸甲酯相容性的分析，选择了含有偶氮苯介晶基元的甲基丙烯酸酯类和甲基丙烯酸甲酯共聚物以及甲基乙烯基酮和甲基丙烯酸酯类的共聚物两类聚合物作为光敏光纤的纤芯材料。 　　本文简要地介绍了聚甲基丙烯酸甲酯类聚合物光纤的传统制作方法。然后详述了以聚甲基丙烯酸甲酯为主要材料通过掺杂和共聚的方法制作多模光敏聚合物光纤和应用两次聚合再拉伸的方法制作单模(或少模)的聚合物光纤的过程。并对用双频光栅的方法和掩模板法在此光敏聚合物光纤上刻写了长周期光纤光栅的实验方法作了叙述。 　　通过对甲基丙烯酸甲酯和甲基乙烯基酮的共聚物曝光前后的红外光谱和紫外光谱的分析，认为分子链降解过程中产生较多不饱和键使得材料的介电性能发生变化，是引起折射率变化的主要原因。