液相电化学沉积Ni、Ag及SiO<,2>掺杂类金刚石碳薄膜的研究

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利用液相电化学沉积的方法制备得到不同元素掺杂的类金刚石薄膜,通过X射线光电子能谱(XPS)、拉曼激光散射谱(Raman)、扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)和透射电子显微镜(TEM)等多种表征手段对制备的薄膜进行了组成、结构和形貌表征,并利用多功能微摩擦仪考察了薄膜的摩擦学性能和膜基结合强度。本论文主要包括以下三个方面的研究内容。(1)液相电化学方法沉积镍掺杂类金刚石薄膜以二甲亚砜为碳源、醋酸镍为掺杂剂,在低压150 V电压下,运用电化学沉积方法在硅
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