当微结构表面几何尺度与入射波波长相当时，将产生与传统上基于几何光学概念的热辐射理论相违背的微尺度效应，因此其辐射特性的获取需要求解Maxwell方程组。过去人们的研究重点在于能量传播方面，相继发展了表面等离子极化(SPP)和磁极化(MP)等理论。本文主要研究微结构表面镜向反射的偏振特性，内容是通过求解微结构区域的电磁场得到其表面的辐射偏振性质，重点研究氧化层和粗糙度对椭偏参数的影响。　　本文采用严格耦合波分析法研究了一维铝矩形光栅中氧化层及其厚度分布对镜反射方向椭偏特性的影响。在氧化层均匀条件下，椭偏参数随氧化层厚度的增加会产生数值增减、或者峰谷位置红移现象。在氧化层不均匀条件下，光栅凸脊顶部、凸脊侧面和凹槽底部氧化层对椭偏特性的影响不同，并且不同位置处氧化层对不同入射波波长的敏感性不同。将椭偏参数代入镜反射方向Mueller矩阵中，矩阵中三个独立元素随一维铝矩形光栅氧化层厚度、位置及入射波波长出现数值增大或减小的现象。它的变化趋势及数值变化大小比椭偏参数更加明显，在实际的椭偏测量过程中具有更高的精度和可操作性。　　本文采用时域有限差分法研究了在不同入射波波长和入射角度下，二维硅高斯粗糙表面的均方根粗糙度和自相关长度对镜反射方向椭偏参数的影响。结果表明，均方根粗糙度越大、自相关长度越小，椭偏参数偏离光滑硅表面椭偏参数越大。入射波波长越短、入射角越接近布儒斯特角，该影响越明显。均方根粗糙度越大、自相关长度越小、入射波波长越短，由粗糙表面椭偏参数计算得到的光学常数偏离光滑硅表面的光学常数越大，但由椭偏参数计算得到的光学常数与入射角角度无关。