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本文研究了镍基体的一种电沉积防腐技术,通过循环伏安法、恒电位法使得8-羟基喹啉发生电聚合反应,在基体表面形成明亮、光滑的浅黄色薄膜,从而达到防腐效果。通过单因素实验获得各条件下的最优工艺分别如下:使用循环伏安法沉积聚8-羟基喹啉的最优条件为8-羟基喹啉浓度0.002mol/L, NaOH浓度0.4mol/L,扫描速度为30mv/s,扫描圈数为8圈;使用恒电位法沉积聚8-羟基喹啉的最优条件为沉积电位0.5V,8-羟基喹啉浓度0.002mol/L,NaOH浓度0.4mol/L,沉积时间为500s。进一步