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硫化铅(PbS)元件的响应率高,制备工艺相对简单,可在室温下稳定工作,是一种被广泛应用于近红外波段(1-3μm)的光电导型红外探测器。为了制备出性能优异的多元阵列,首要条件是获得大面积、高均匀性、高响应性的PbS多晶膜。本文从PbS光敏薄膜的沉积、敏化以及制成器件的老化三个工艺点出发,探讨了这些工艺条件对薄膜的性能影响及其机理。实验中生长PbS光敏薄膜的方法为化学液相法(CBD)。分别采用不同的沉积温度与磁力搅拌速率在玻璃衬底上沉积PbS薄膜,通过比较其微结构与光电性能,分析得到了优化的沉积