目前我国的汞消费量不断增大且造成了严重的环境污染，威胁着人类的健康。本文从长期受汞污染的土壤筛选驯化高效抗汞菌株，并利用细胞形态分析、API20E和16SrDNA方法对菌株进行鉴定，研究抗汞菌株的汞去除效果及适应参数进行优化，同时利用质粒消除和质粒提取技术对该菌株的抗汞基因进行定位，取得了较好的研究结果。本论文的研究为治理汞污染的生物技术打下了良好基础，具有重要的理论与实践意义。1.经过驯化筛选，获得抗汞细菌2株，选择其中去汞能力强的菌株进行系统研究，并命名为PII，该菌株可耐受最大Hg²⁺浓度为50mgL^-1。2.经细胞形态分析，可知PII菌株为为革兰氏阴性反应短杆菌，菌落为圆形，边缘整齐，表面凸起，呈现浅黄色，半透明；API20E和16SrDNA方法对其进行鉴定，结果表明该抗汞菌株PII，最终鉴定为恶臭假单胞菌（Pseudomonasputida）。3.对菌株PII汞去除能力进行测试，结果表明抗汞菌株PII对Hg²⁺的最大适宜耐受浓度为30mgL^-1;当Hg²⁺初始浓度为15mgL^-1时，培养24h后该菌株达到最高去汞率85.2%。4.环境条件（温度、pH）对菌株PII生长及去汞率的影响较大；抗汞菌株去除Hg²⁺的最适宜条件为：温度30℃、pH值7.0。5.对抗汞菌株进行质粒提取，其质粒片段较大，在4kb-5kb左右；通过对PII菌进行质粒消除实验，结果发现质粒去除的菌株汞去除能力也随之消失，即质粒的存在与菌株对汞的抗性相关。故将PII菌的抗汞及抗汞基因初步定位在质粒上。