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京津冀协同创新能力比较及影响因素
【出 处】
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河北工业大学
【发表日期】
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2020年01期
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前言二氧化硅乳胶是一种新型的液态扩散源,它已广泛应用于集成电路和半导体器件的生产上。例如,纯二氧化硅乳胶经氧化致密可作屏蔽层,掺砷二氧化硅乳胶可作模拟集成电路的埋层扩散源,掺磷二氧化硅乳胶可作为衬底扩散源,掺硼二氧化硅乳胶则可作为PNP管发射区的扩散源等等。使用这些新型液态扩散源,可使工业流程缩短,成品合格率提高。我们参照国外有关资料研制成功的此类二氧化硅乳
期刊
在NMOS电路中,场区淡硼扩散决定了击穿电压和场开启电压.过去,我们一直采用粉末氮化硼（BN）经烧结后作为场区硼扩散源.由于这种扩散方法的均匀性和重复性受粉末氮化硼的均匀性及扩散时间、温度和气氛的影响很大,所以,均匀性和重复性都难以保证.同时,由于场区的淡硼扩散,所以,很难将扩散浓度控制在合适的范围,从而使场击穿电压、开启电压、漏电流往往不能满足要求,因而影响了电路成品率.采用氮化硼粉未作
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