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目前许多学者研究了氧化钨氢还原制取超细钨粉的工艺,但是其机理仍然不统一和明确。关于氧化钨表面氢吸附机理和动力学过程的研究较少,因此有必要对其进行研究,从而进一步了解氧化钨氢还原动力学机理。基于实验条件的限制,传统的材料研究设备都不能被用于研究H原子和H_2分子在氧化钨表面的吸附状况,所以人们无法通过实验的方法来研究H原子和H_2分子与氧化钨表面的相互作用。针对此问题,本文以Materials Studio7.0软件为计算平台,采用第一性原理计算从原子和电子角度探讨了氧化钨表面性质及其氢吸附机理,同时