溶致液晶模板法制备介孔氧化铝

来源 :内蒙古工业大学 | 被引量 : 2次 | 上传用户:JockWang
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介孔氧化铝是一种优于传统氧化铝新兴材料,因其具有比表面积大、孔径分布集中、热稳定性高、易于参杂、可负载多种金属等特性,越来越多的被用于催化、吸附分离、生物医药等领域。溶致液晶模板法是软模板法的一种,用溶致液晶模板法制取介孔材料,易于操作,粒度可控,通过改变模板可以改变粒子型态、产物形貌及比表面积,是近年来研究的热点。本文采用溶致液晶模板法制备介孔氧化铝,分别构建SDS/C5H11OH/H2O和CTAB/C10H21OH/H2O三元体系的溶致液晶模板。考察了表面活性剂浓度、助溶剂浓度以及二次水含量对溶致液晶相结构的影响。在SDS:C5H11OH=8:2,二次水含量为50%的比例下,SDS/C5H11OH/H2O呈现层状的溶致液晶相;在CTAB:C10H21OH=5:5,二次水含量为60%的比例下,CTAB/C10H21OH/H2O呈现层状的溶致液晶相,由于在SDS/C5H11OH/H2O体系下形成的溶致液晶相分布均匀,确定采用SDS/C5H11OH/H2O体系作为模板以氯化铝为铝源,氨水为沉淀剂,替代体系中的水,考察了铝源的浓度、沉淀剂的质量分数对模板形成的影响以及焙烧温度对氧化铝形貌的影响。焙烧温度过高,导致孔坍塌,不利于结晶。采用热重(TG-DSC)、X-射线衍射仪(XRD)、红外光谱仪(FTIR)、比表面积测定仪(BET)、扫描电子显微镜(SEM)等测试手段进行表征。研究结果表明,XRD和FTIR测试结果表明制备的样品为氧化铝,在氯化铝浓度为0.5mol/L、氨水质量分数为25%时能够得到层状的溶致液晶相。焙烧温度为700℃的条件下得到样品为γ-Al2O3,BET测定该样品的平均孔径为6.5nm,比表面积为400 m2/g左右,达到介孔物质的要求。
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