超低功耗CMOS基准电压源的研究与设计

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随着可穿戴电子设备以及无线传感网络的更新换代,集成电路的功耗逐渐成为制约电子产品小型化和长续航的瓶颈问题。为了适应集成电路超低功耗的趋势,越来越多基准电压源的研究和设计进入了纳瓦水平。但是,传统的基准电压源电路中,电阻往往是不可缺少的,这导致了在纳瓦电流的基准源中传统结构的可行性很低。低成本的要求使得集成电路的数字化程度逐渐加深,因此研究设计结构简单,占用面积小,可使用标准数字CMOS技术实现的超低功耗基准电压源具有重要的意义。本文在首先分析了国内外在低功耗基准电源方面的研究进展及趋势,指出本文基准源的研究内容以及期望达到的设计指标。本文设计的超低功耗基准电压源基于MOSFET亚阈值区的特性,MOSFET阈值电压是重点分析和考虑的因素。从物理结构和能带角度综合分析了亚阈值区MOSFET的原理及特点,讨论了影响MOS管阈值电压大小的因素,分析了亚阈值管的部分电流电压特性。阐述了设计全MOSFET超低功耗基准电压源的设计思路,给出了基本构架。在理论研究和分析的基础上,基于0.18um标准CMOS工艺,首先设计了一种全MOSFET结构的超低功耗基准电压源,性能基本达到指标要求。从理论和仿真两方面分析了影响基准输出特性的因素,并设计了改进型的超低功耗基准电压源电路,利用Cadence Spectre完成电路仿真并完成版图设计。本文设计的超低功耗基准电压源的优势以及创新之处在于:实现了超低的电路功耗,在1.2V电源电压下,输出电压为560mV时,电路的总功耗约为127nW;设计了一种结构新颖的纳安电流偏置电路,提高了电路的电源抑制比,低频下前仿真PSRR达到了-80dB以上,版图后仿真PSRR为-64dB;实现了无电阻,无双极型晶体管的全MOSFET结构,占用面积小,仅为158um*71um;工艺简单,与数字CMOS工艺兼容,节省生产制造成本。
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