【摘 要】
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本论文采用反应磁控溅射法制备了Al-Si-N复合膜、ZrN/Al-Si-N纳米多层膜以及Al-Si-C-N纳米复合膜。研究了Si含量对Al-Si-N薄膜的微结构和性能的影响;研究了不同调制比和不同调制周期对ZrN/Al-Si-N纳米多层膜微结构及其性能的影响,并探讨了多层膜的可能致硬机理;研究了不同C靶功率对Al-Si-C-N复合膜的微结构和性能的影响,并探讨了复合膜的可能致硬机理。研究结果如下:
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本论文采用反应磁控溅射法制备了Al-Si-N复合膜、ZrN/Al-Si-N纳米多层膜以及Al-Si-C-N纳米复合膜。研究了Si含量对Al-Si-N薄膜的微结构和性能的影响;研究了不同调制比和不同调制周期对ZrN/Al-Si-N纳米多层膜微结构及其性能的影响,并探讨了多层膜的可能致硬机理;研究了不同C靶功率对Al-Si-C-N复合膜的微结构和性能的影响,并探讨了复合膜的可能致硬机理。研究结果如下:在Ai-Si-N复合膜中,随着Si含量的增加,AlN(100)、AlN(110)衍射峰先
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