十八烷基三氯硅烷自组装多层膜的制备及性能研究

来源 :武汉理工大学 | 被引量 : 3次 | 上传用户:aptxkid2009
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为解决原子蒸气腔室内极化原子的碰撞弛豫问题,抗弛豫镀层的制备和研究引起了学者的广泛关注。作为高温有效(170°C)的抗弛豫材料,十八烷基三氯硅烷(OTS)具有较好的抗弛豫性能,能够有效维持原子的极化状态。对OTS镀膜初期的形成机理,以及镀膜制备的最佳条件还有待研究,此外将OTS膜引入微型化腔室在工艺上还存在困难。本文采用浸没法在玻璃基底上制备OTS自组装多层膜,通过原子力形貌分析,研究了OTS膜的成膜机理;通过改变镀膜时间及溶液浓度,研究了实验条件对OTS膜表面形貌和性能的影响;另外,实验采用光刻蚀方法制备了图案化OTS膜,并结合标准MEMS工艺,将OTS膜引入微型化原子蒸气腔室;实验采用图案化的OTS膜作为疏水模板诱导生长铁酸铋(BiFeO3,BFO)薄膜,研究了旋涂层数对BFO薄膜形貌和性能的影响;实验采用蒸发沉积法将OTS膜作为界面修饰层,研究其对BFO薄膜光伏性能的影响。本文主要研究内容如下:(1)实验发现OTS自组装膜是按照典型的成核生长机制形成的。通过研究浸没时间和溶液浓度对OTS自组装多层膜表面形貌和疏水性的影响,在浓度为5 mM,镀膜时间15 min时制备出了疏水性最好、覆盖率最高的自组装膜,水滴接触角高达116.4°。(2)实验采用浸没法镀膜并结合光刻和反应离子刻蚀(RIE)技术及阳极键合工艺将OTS膜成功引入MEMS微型腔室,制备出带镀层的腔室,且腔室密封性良好,腔室内尺寸为3×3×0.5 mm3,漏率低至1.27×10-88 Pa·m3/s。(3)实验采用浸没法和光刻及RIE刻蚀技术在FTO导电玻璃表面制备了图案化的OTS膜模板。采用旋涂法和一次性退火工艺在OTS自组装膜模板表面成功诱导生长了图案化的BFO薄膜,通过研究旋涂层数(4、6、8、10层)对薄膜表面形貌和铁电性能的影响发现:当旋涂6层时获得的BFO薄膜结晶良好、结构致密、缺陷少、铁电性能好。(4)实验研究了以还原氧化石墨烯(RGO)和OTS膜修饰的BFO薄膜太阳能电池的光伏性能,发现经OTS修饰能够明显提高电池的Voc,而RGO则更有助于提高电池结构的填充因子(FF)和光电转换效率(PCE)。
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