在当代高科技领域，薄膜科学有着极其重要的应用，许多新材料和新器件的开发都是从制备薄膜开始的。但是由于薄膜复杂的生长过程，用实验和理论的方法研究薄膜的生长存在一定的困难，因而人们开始用计算机模拟的方法来研究薄膜的微观生长过程。 本文首先简单介绍了薄膜的生长机理和相应的计算机模拟技术，在此基础上建立了一个薄膜生长的三维模型，采用蒙特卡罗方法对薄膜初期成核生长和表面形貌进行了模拟研究，通过改变模拟参量(如粒子初始动能、沉积速率和衬底温度等)得到模拟结果，并把部分模拟结果与所做的实验和文献中的实验结果进行了讨论和比较。 在模拟之前，首先对模型进行检验，主要考虑两方面：随机数的均匀性和模型模拟的薄膜生长的变化过程。模拟中通过计算薄膜生长初期的岛核数和岛平均粒子数，分析薄膜的三维表面形貌，揭示了入射粒子的初始动能和沉积速率对薄膜生长的影响；通过对不同温度下薄膜表面均方根粗糙度的计算，分析了衬底温度对薄膜表面形貌的影响。 本文还对部分模拟结果进行了实验验证，给出了镀膜时的实验参数及样片的扫描电镜图片。从比较分析的结果发现，模拟结果与实验研究和文献中的结果相符。